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日刊工業新聞にレジスト剥離対応の半導体向け90ppmオゾン水生成装置の取材記事が掲載されました。

2017年9月6日

日刊工業新聞 2017年9月1日 (金) 付にて、弊社への取材記事『エコデザイン、濃度90ppmのオゾン水生成装置 レジスト剥離など用』が掲載されました。Web版記事はこちらからご覧いただけます

半導体や液晶パネルの製造段階におけるレジスト剥離工程に利用することのできる、高濃度オゾン水の生成装置開発についての記事となっています。

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