オゾン水による基板の有機物洗浄試験（2）

試験目的

オゾン水洗浄における、有機物除去性の面内均一性を確認。及び、オゾンによるAl膜への影響度（表面酸化）を確認。

試験条件
使用オゾン発生器 研究開発用オゾン発生器　ED-OG-R4(旧ED-OGM-1)
洗浄水圧力 0.1MPa
O2ガス圧力 0.2MPa
O2ガス流量 0.5l/min
オゾン発生器電流値 1A
オゾン発生器冷却水温度 27℃
オゾン濃度 130g/Nm3
オゾン発生量 6g/hr
洗浄基板製作フロー

基板上にアルミ成膜

→レジスト塗布（54cp）

→プリベーク（恒温槽110℃，5min）

→剥離液槽（2min）

→IPA洗浄槽（2min）

→純水洗浄槽（2min）

→純水洗浄フィルター循環槽（2min）

→最終スプレー洗浄

洗浄検討
項目 基板
No.		 洗浄
方法		 洗浄
時間		 O2
圧力		 O2
流量		 有機物残渣測定
（XPS）		 表面酸化
測定
（XPS）
センター R50 R90 R50
リファレンス 1 - - - - × ○ × ○
内面均一性 2 オゾン
水洗浄		 40sec 0.2MPa 0.5l/min ○ ○ ○ ×
表面酸化 3 オゾン
水洗浄		 40sec 0.2MPa 0.5l/min × × × ○
4 5min × × × ○
残渣確認 5 オゾン
水洗浄		 40sec 0.2MPa 0.5l/min × ○ × ×
測定ポイント

センター，R50，R90の計3点の有機物残渣を測定する。

測定ポイント　内面均一性

R50付近1点を測定する。

測定ポイント　表面酸化
結果
オゾン水洗浄面均一性 酸化

基板面内均一性は良好である。（センター，R50，R90の残渣量がほぼ同じ）

酸化に関しては、40sec，5min共、特に変化は見られなかった。（リファレンスレベル）

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