〈オゾンの基礎知識〉

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オゾン水による基板の有機物洗浄試験（2）

試験目的

オゾン水洗浄における、有機物除去性の面内均一性を確認。及び、オゾンによるAl膜への影響度（表面酸化）を確認。

試験条件

使用オゾン発生器	研究開発用オゾン発生器　ED-OG-R4(旧ED-OGM-1)
洗浄水圧力	0.1MPa
O2ガス圧力	0.2MPa
O2ガス流量	0.5l/min
オゾン発生器電流値	1A
オゾン発生器冷却水温度	27℃
オゾン濃度	130g/Nm3
オゾン発生量	6g/hr

洗浄基板製作フロー

基板上にアルミ成膜

→レジスト塗布（54cp）

→プリベーク（恒温槽110℃，5min）

→剥離液槽（2min）

→IPA洗浄槽（2min）

→純水洗浄槽（2min）

→純水洗浄フィルター循環槽（2min）

→最終スプレー洗浄

洗浄検討

項目	基板 No.	洗浄 方法	洗浄 時間	O2 圧力	O2 流量	有機物残渣測定 （XPS）			表面酸化 測定 （XPS）
						センター	R50	R90	R50
リファレンス	1	-	-	-	-	×	○	×	○
内面均一性	2	オゾン 水洗浄	40sec	0.2MPa	0.5l/min	○	○	○	×
表面酸化	3	オゾン 水洗浄	40sec	0.2MPa	0.5l/min	×	×	×	○
	4		5min			×	×	×	○
残渣確認	5	オゾン 水洗浄	40sec	0.2MPa	0.5l/min	×	○	×	×

測定ポイント

センター，R50，R90の計3点の有機物残渣を測定する。

R50付近1点を測定する。

結果

基板面内均一性は良好である。（センター，R50，R90の残渣量がほぼ同じ）

酸化に関しては、40sec，5min共、特に変化は見られなかった。（リファレンスレベル）

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