オゾン水による基板の有機物洗浄試験(3)

試験目的

オゾン水洗浄によるAl膜への影響度(表面粗さ)を確認。

試験条件
使用オゾン発生器 研究開発用オゾン発生器 ED-OG-R4BW(旧ED-OGM-1)
洗浄水圧力 0.1MPa
O2ガス圧力 0.2MPa
O2ガス流量 0.5l/min
オゾン発生器電流値 1A
オゾン発生器冷却水温度 27℃
オゾン濃度 130g/Nm3
オゾン発生量 6g/hr
洗浄基板製作フロー

基板上にアルミ成膜

→レジスト塗布(54cp)

→プリベーク(恒温槽110℃,5min)

→剥離液槽(2min)

→IPA洗浄槽(2min)

→純水洗浄槽(2min)

→純水洗浄フィルター循環槽(2min)

→最終スプレー洗浄

洗浄検討
項目 基板
No.
洗浄
方法
洗浄
時間
O2
圧力
O2
流量
リファレンス 1 - - - -
表面粗さ 2 オゾン水洗浄 40sec 0.2MPa 0.5l/min
3 5min
測定ポイント

R50付近の一点を測定する。

測定ポイント 表面粗さ
結果
リファレンス基盤×10,000

リファレンス基盤×10,000

リファレンス基盤×50,000

リファレンス基盤×50,000

オゾン水洗浄(40sec)×10,000

オゾン水洗浄(40sec)×10,000

オゾン水洗浄(40sec)×50,000

オゾン水洗浄(40sec)×50,000

オゾン水洗浄(5min)×10,000

オゾン水洗浄(5min)×10,000

オゾン水洗浄(5min)×50,000

オゾン水洗浄(5min)×50,000

リファレンスと比較し、表面粗さが粗くなっているよりも、むしろ平坦化されているように観察される。

オゾン水洗浄5min時に、黒点が観察される。(ピンホール?)

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