オゾン水による基板の有機物洗浄試験(4)

試験目的

オゾン水による基材の洗浄力を確認する。

試験条件
使用オゾン水生成装置 オゾン水生成装置 ED-OW-7(旧ED-OW-3)
洗浄水 流水中に浸漬
オゾン水濃度 7~8ppm
オゾン発生器冷却水温度 23.5℃
試験方法

処理対象の基材に有機物(油)を垂らす。

処理対象の基材に有機物(油)を垂らす。(写真)

→超音波洗浄槽にオゾン水、酸素含有水、もしくは水道水を満たす。

→有機物をたらした窒化チタンを槽内で左右に振り洗浄する。

有機物をたらした窒化チタンを槽内で左右に振り洗浄する。(写真)

→それぞれサンプリングしたものを分析。

結果
基材 オゾン濃度 超音波
洗浄器
時間 外観
(内面残渣率)
TiN
(窒化チタン)
0ppm
水道水
不使用 5s 95%
不使用 30s 30%
0ppm
水道水+酸素
不使用 5s 16%
使用 5s 16%
7~8ppm
水道水+オゾン
不使用 5s 7%
使用 5s 59%
不使用 30s 3.5%
使用 30s 5.7%

残渣の様子

残渣の様子(写真)

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考察

オゾンによる洗浄効果は確認された。

洗浄時間延長で洗浄力は増加するが、完全除去にはさらなる水圧等を要する。

酸素含有水のみで洗浄効果がありそうだが、若干拭いたため再確認要。

オゾン含有水での超音波洗浄は逆効果。

オゾン含有水での超音波洗浄時の観察では、有機物に無数の気泡が発生し、これが基板からの有機物剥離を阻害していると考える。

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