半導体基板の精密洗浄用にメタルフリーのオゾン水生成装置

導入企業セファテクノロジー株式会社 様
インタビュー上越事業所 佐藤正幸 様、亀山賢一 様
所在地新潟県上越市
使用目的薬液代替、成膜、精密洗浄、半導体、基板洗浄
使用製品

オゾン水生成装置 OWF-C45L30P オーダーメイド仕様

オゾン水濃度30mg/L、オゾン水流量45L/min。旋回流式溶解法(当社独自技術)により、メタルフリーのオゾン水を高濃度、大流量で供給できます。ご要望に応じて細かい仕様を変更可能です。

インタビュー

――業務内容を教えてください。

自動機や半導体製造関連装置などの設計製造販売を行っております。自動機というのは工場の生産ラインなどで自動で製造を行う機械のことです。弊社の場合規格品ではなく、お客様からこんなものが出来ないかっと相談を受けて、そこから打ち合わせをしながらオーダーメイドで作ります。

 

元々は電気工事から事業をスタートしたのですが、そこから装置作りに入っていき、現在は機械的な部分に関しても一貫して行うことができます。

 

画像_バッチ式洗浄装置

製品例:バッチ式洗浄装置(画像提供:セファテクノロジー株式会社)

――ご使用用途について教えてください。

エコデザインのオゾン水生成装置に関しては、半導体基板の材料となるシリコンウェハーの精密洗浄に使用されます。具体的にはシリコンのインゴットからスライスしたウェハーに対して随時洗浄を行っているような形です。運転頻度としては、常時稼働し続けている工場です。

ダミ

――弊社のオゾン水生成装置を選んだ理由はなんでしょうか?

エコデザインのオゾン水生成装置はメタルフリーな状態でオゾン水を供給できるので、まずその点から選びました。オゾンガスを直接水に混合するエジェクターでの混合方式であるというところです。半導体の洗浄ではいわゆる金属コンタミの問題で、膜浸透型のような微量の金属が混入することが許されません。

 

また、求められたスペックが製造可能であったということです。選んでたまたま連絡したら新潟までデモ機を持ってきてくれたので、そこで説明を受けて、要求スペックを満たしていましたので決めました。

 

ちなみに、購入した製品は海外の半導体工場に導入するのですが、システム導入のアドバイザーの影響もあり、本来必要となるスペックよりもかなりハイスペックなものを要求してくる傾向があります。日本で使われている物より、もっとハイスペックなものを!みたいな感覚です。正直、余計なコストがかかるのでいい傾向ではないですね。実際には本来の実力の半分程度の能力で運用することになります。

 

放電管_1

石英三重管式放電管

――改善してほしい点を教えてください。

そうですね、やっぱりまずはもうちょっとコンパクトに、ちょっと小さくして頂ければ助かります。

 

それと、立ち上げの時に取説を見るだけで問題なく立ち上げられるように、素人がやっても弄られるのがベストですね。色々と弄らないといけないパラメータがあるので、その点が大変です。知っていれば色々と設定できるので使いやすいと思うのですけど、知らない人にとっては余計なところにまで設定があったりするので。最悪、素人が変に弄って故障の原因にもなります。

 

また、設置する側としてはカバーをもっと開けやすくしてほしいですね。まあ、開けやすくてもそれはそれで問題があるのでしょうけど、メンテナンスするところに関しては簡単に開きやすくしてほしいですね。

―ご要望の点について改善してまいります。ありがとうございました。

製品の活用方法

活用方法の詳細

半導体工場で、半導体基板の精密洗浄システムの一部としてご利用いただいております。

 

画像提供:セファテクノロジー株式会社

オゾン水生成装置 OWF-C45L30P

使用機種の詳細はこちらから

オゾン水生成装置 OWF-C45L30P

オゾン水濃度30mg/L、オゾン水流量45L/min。旋回流式溶解法(当社独自技術)により、メタルフリーのオゾン水を高濃度、大流量で供給できます。ご要望に応じて細かい仕様を変更可能です。

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