特長

旋回流式溶解法（特許技術）採用

溜まり水・捨て水が極めて少なく、濃度の立ち上がりが高速です。1分で安定した濃度・流量のオゾン水を生成できます。旋回流式溶解法はエコデザインだけの特許技術です（特許6954645号）。

金属汚染のないクリーンオゾン水

エコデザイン独自技術により、接液部に金属を使っていません。半導体洗浄に適するクリーンなメタルフリーオゾン水を生成できます。

幅広い要求に対応、カスタマイズ歓迎

オゾン水濃度は最大100ppm、流量は1L/minから最大60L/minまで幅広く適応します。半導体プロセスにおけるオゾン水を使いたい多様な要求に最適な装置をオーダーメイドで製造いたします。利用プロセスや装置に合わせたカスタマイズが可能です。

SEMI S2 / F47 認定取得済

国際的な半導体製造装置規格である「SEMI S2」および「SEMI F47」認定を取得済です。