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半導体、FPD等製造工程の精密洗浄用途に

半導体プロセス向けオゾン水生成装置のオーダーメイド製造販売

濃度~100ppm、流量~60L/minの幅広い適応範囲。多種多様な要求にオーダーメイド可能。

大流量、高濃度のオゾン水生成装置です。カスタマイズ歓迎。洗浄、レジスト剥離用途に適合、枚葉式洗浄装置にも最適です。特許取得済み。

用途に応じたカスタマイズが可能なオゾン水生成装置です。

半導体・FPD分野の製造プロセスにおける洗浄用途に活躍しています。

エコデザイン独自技術「旋回流式溶解法」特許取得済みです(特許6954645号)。

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    半導体プロセス向けオゾン水生成装置のオーダーメイド製造販売の特長

    • 旋回流式溶解法(特許技術)採用

      溜まり水・捨て水が極めて少なく、濃度の立ち上がりが高速です。1分で安定した濃度・流量のオゾン水を生成できます。旋回流式溶解法はエコデザインだけの特許技術です(特許6954645号)。

    • 金属汚染のないクリーンオゾン水

      エコデザイン独自技術により、接液部に金属を使っていません。半導体洗浄に適するクリーンなメタルフリーオゾン水を生成できます。

    • 幅広い要求に対応

      オゾン水濃度は最大100ppm、流量は1L/minから最大60L/minまで幅広く適応します。半導体プロセスにおけるオゾン水を使いたい多様な要求に最適な装置をオーダーメイドで製造いたします。

    • カスタマイズ歓迎

      利用プロセスや装置に合わせたカスタマイズが可能です。

    貴社のニーズにきめ細かく対応
    ご要望をお伝えください。豊富な経験から貴社のニーズにきめ細かく対応いたします。
    高精度オゾン水濃度制御
    紫外線式オゾン水濃度計によりモニタリングした濃度を元にフィードバック制御。安定した供給を可能にしています。
    発生器、混合器の個別利用可能
    オゾン発生器部分と水混合器の部分を個別利用することが可能です。

    半導体プロセス向けオゾン水生成装置のオーダーメイド製造販売の概要

    半導体、FPD等製造工程の精密洗浄用途に半導体プロセス向けオゾン水生成装置のオーダーメイド製造販売

    この製品のポイント

    • 最高オゾン水濃度100ppm
    • 循環ポンプ内蔵
    • 冷却水不要
    • 最大オゾン水吐出量60L/min

    こんなことができます

    • オゾン水循環システム構成
    • 表面酸化
    • レジスト剥離
    • 有機物洗浄

    製品の仕様

    型式(例)OWF-C45L30POWF-C5L30P
    オゾン水濃度
    (オゾン水生成能力)
    OWF-C45L30P…最大100ppmOWF-C5L30P…最大60ppm
    オゾン水流量
    (オゾン水生成能力)
    OWF-C45L30P…最大60L/minOWF-C5L30P…最大7L/min
    オゾン水吐出圧
    (オゾン水生成能力)
    OWF-C45L30P…最大0.15MPaOWF-C5L30P…最大0.20MPa
    原料酸素条件圧力0.3MPa,純度99.5%以上(CO2またはN2にて調整)
    原料水条件超純水・純水・市水,0.25MPa,25℃以下
    接オゾン材質石英ガラス,PFA,PTFE,ルビー
    オゾン発生方式無声放電法
    放電管冷却方式水冷式(内部ラジエータ水冷)
    外形寸法OWF-C45L30P…900W×929D×1881H
    (突起部は含まない)
    OWF-C5L30P…611W×590D×1317H
    (突起部は含まない)
    電源AC100V±10%,50/60Hz
    消費電力OWF-C45L30P…5kWOWF-C5L30P…1kW
    外部入出力あり
    使用環境気温5~40℃,湿度90%R.H.以下
    屋内,結露が無いこと,塵埃が少ないこと
    メーカーエコデザイン株式会社

    ※この表は製品仕様例です。お客様のご要望に応じてカスタマイズが可能です。

    主に使われる用途・業種

    • 半導体洗浄

    • 液晶製造工程

    • 太陽電池洗浄

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      製品のご不明点につきましても、遠慮なくお問い合わせください。

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