問い合わせからたった1か月で表面処理プロセスの共同デモ試験を実施した実験事例

導入企業某半導体製造メーカー 様
インタビュー表面処理プロセス開発担当者 様
所在地非公開
使用目的半導体製造、表面処理プロセス、社内開発
使用製品

メタルフリーオゾン水生成装置 OWF-C45L30P(デモ試験専用カスタム改造モデル)

オゾン水濃度30mg/L、オゾン水流量45L/min。旋回流式溶解法(当社独自技術)により、メタルフリーのオゾン水を高濃度、大流量で供給できます。ご要望に応じて細かい仕様を変更可能です。

課題解決のポイント

  1. 機能水であるオゾン水を表面処理プロセスとしてデモ試験で検証

  2. 問い合わせから、わずか1か月で共同デモ試験の実施を実現

  3. デモ試験から3ケ月で、ユーザー様の社内評価を目的として、オゾン水生成装置のレンタルを開始

 

課題 -表面処理プロセス改善の早期実現

  • 表面処理プロセスの改善
    半導体業界は市場競争が非常に激しく、半導体製品の製品付加価値向上のため、表面処理プロセスの改善が早急に求められていました。
     
  • 業界トレンド:環境負荷の低減
    半導体製造工程では、製造プロセスの中で毒性の高い化学物質を多く使用しており、安全性の担保、環境負荷の高さ、薬品廃棄処理コストの低減が業界全体の課題として挙げられています。
     
  • 早期の実験実施の必要性
    安全性が高く、環境負荷の低減可能性のあるプロセス候補の1つとして、機能水であるオゾン水に着目。しかし、通常の場合、一から検証を始めるには多くの時間と予算が必要となります。
     

上記を踏まえ、エコデザイン株式会社との共同デモ試験を実施し、強い酸化力を有するオゾン水を利用することで、金属表面を金属酸化物に変えることができないか、を検証しました。

 

近年需要の高い半導体カテゴリ ロジック、メモリ、パワー半導体が成長を牽引しています

半導体市場は需要環境の変動が大きいため、需給の変化に合わせた機動的な対応が鍵となります。

解決 ―問い合わせから、わずか1か月で共同デモ試験による検証を実現

エコデザイン株式会社のオゾン水生成装置OWF-C45L30P(デモ試験専用カスタム改造モデル)を使用することで、デモ試験の早期実現を叶えました。問い合わせから、わずか1か月で共同デモ試験の実施を実現。

お客様にて試験サンプルを持込みしていただき、​弊社デモ設備にて、オゾン水の処理条件(オゾン濃度、時間)を振りながら検証実験を実施しました。​実験後のサンプルは、お客様で解析いただくことで、機密情報が外部に漏れるリスクを低減しております。​

実験内容(概要)

①3Dプリンターで本実験専用のテストサンプルを作成。

②オゾン水による強い酸化力で金属表面に析出したニッケルを金属酸化物に変化させます。

エコデザインの実験設備 装置をあえてバラック化することで柔軟な対応を可能にしています

エコデザインの実験設備 オゾン水生成装置をあえてバラック化することで、柔軟な対応を可能にしています

その後の展望:オゾン水生成装置を使った社内評価試験へ移行

  • オゾン水生成装置のレンタルを開始
    デモ試験から3ケ月で、ユーザー様の社内評価を目的として、オゾン水生成装置のレンタルを開始。量産工程への展開可否をご検討いただいています。​

お客様の声

社内評価用途にオゾン水生成装置を使用させていただきました。国内で早期に評価検討を行うことのできる会社が非常に少なく、大変助かりました。その後の評価検討も順調に進んでおります。

使用機種の詳細はこちらから

オゾン水生成装置 OWF-C45L30P

 

オゾン水濃度30mg/L、オゾン水流量45L/min。旋回流式溶解法(当社独自技術)により、メタルフリーのオゾン水を高濃度、大流量で供給できます。ご要望に応じて細かい仕様を変更可能です。
 
■45L/min・30mg/Lの大流量オゾン水生成
■接液部メタルフリー。独自特許の旋回流方式
■枚葉洗浄・バッチ洗浄・レジスト剥離に
■大規模ラインの量産に最適

 

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