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導入事例・インタビュー

ジャパンクリエイト株式会社 様
ジャパンクリエイト株式会社 様

上杉 充弘 様

所在地:埼玉県所沢市

シリコンウェハーの精密洗浄にメタルフリーのオゾン水生成装置

精密洗浄半導体 薬液代替、成膜、精密洗浄、半導体、基板洗浄

メタルフリーオゾン水生成装置シリーズ OWF-C20L30P オーダーメイド仕様

使用機種

メタルフリーオゾン水生成装置シリーズ OWF-C20L30P オーダーメイド仕様

オゾン水濃度20mg/L、オゾン水流量30L/min。旋回流式溶解法(当社独自技術)により、メタルフリーのオゾン水を高濃度、大流量で供給できます。ご要望に応じて細かい仕様を変更可能です。

――業務内容を教えてください。

私どもは主として半導体のシリコンウェハーの表面処理の装置をメインとして製造販売しています。表面処理と言いますのは、まずウェハーの精密洗浄。それから表面のエッチング。それからレジストを除去する。それから現像処理をする。そうした表面処理の装置を製造販売をしています。

 

また、弊社は創業当時から半導体製造装置に特化して事業を行っているので、自社製品は勿論ですが、他社製品のメンテナンスまで対応することができます。

 

初めはドラフトチャンバーとか、そういう手動式の簡単なものから立ち上げて、そこから段々と高度化した製品を取り扱っています。

 

――用途について教えてください。

うちにくるお客さんは、半導体業界の中でもいわゆるウェハーメーカー、材料メーカーが精密洗浄用に使います。精密洗浄の形式は枚葉式やバッチ式に分かれます。さらに、バッチ式に関しては、弊社にはウェハーだけを搬送する装置がありますので、それもセットでシステム化して売っております。最近の納品先は中国など、海外が多いですね。

 

画像提供:ジャパンクリエイト株式会社

――精密洗浄と言いますと、具体的にどういったことなんでしょうか?

 シンプルに言うと、ウェハー表面のパーティクルを除去することです。ただ、求められる洗浄のレベルがどんどん高度化して、ナノレベルのパーティクルを除去する時代になっていますので、それに伴ってただ洗浄するというわけにはいかず、オゾン水を使って表面に酸化膜を作ってフッ酸で除去するといった、非常に高度なものとなってきています。

 

 元々は、表面を物理的にこするとか、超音波をウェハーにかけて除去するとか物理的な方法も行われていましたが、ナノレベルの微細なパーティクルを取るには、もっとソフトタッチに表面のごみを取りたいということでオゾンを使うということになってきています。

 

 具体的にはオゾン水で、その表面に酸化膜を作って、そのあと希フッ酸で除去するということで、パーティクルを酸化膜と一緒にとっちゃうと言うことですね。

 

 半導体基板の洗浄には、工場によっては10近い洗浄機を通すのですが、その中でも最終段階に近いところの1台にオゾンを使った洗浄を行います。業界ではファイナルクリーナーと呼ぶのですが、その段階では極力物理的に表面に力を加えたくないので、やはりオゾンを使いたいということになります。

――製品を選んだ理由と、よかった点について教えてください。

やはりまずはコンパクトであるということ。もちろん値段もリーズナブルなものでないといけないし、小型だから我々の装置と一緒に並べるのに便利だということで。重量も予算も想定よりちょっと少なく済んだんですね。

――改善してほしい点について教えてください。

消耗品のような部分を、長寿命で、圧力とかに耐えるといったような、その辺をちょっと改善して欲しいですね。メンテが少なくて、メンテしなくてもいいものがいいですね。それとやはりオゾン水には炭酸ガスとか酸素とか供給するのがもうちょっと簡易的にできればいいなあと思っています。

――ありがとうございました。

使い方の詳細

使い方の詳細画像

半導体基板となるシリコンウェハーの精密洗浄に使用されております。

 

ジャパンクリエイト様は様々な半導体基板の洗浄装置を取り扱っておりますが、その中でも最終的な洗浄工程に近い精密洗浄工程でご利用しております。枚葉式自動洗浄装置に接続してのご利用です。

 

現在の量産品としては最先端クラスである直径300mmのシリコンウェハーまで対応可能です。

 

画像提供:ジャパンクリエイト株式会社

メタルフリーオゾン水生成装置シリーズ OWF-C20L30P オーダーメイド仕様

使用機種の詳細はこちらから

メタルフリーオゾン水生成装置シリーズ OWF-C20L30P オーダーメイド仕様

オゾン水濃度20mg/L、オゾン水流量30L/min。旋回流式溶解法(当社独自技術)により、メタルフリーのオゾン水を高濃度、大流量で供給できます。ご要望に応じて細かい仕様を変更可能です。

インタビュアーのひとこと

長倉正弥

インタビュアー
長倉正弥

半導体プロセスにおける洗浄工程で、オゾン水生成装置をお使い頂いています。

今回お聞きしたご担当の上杉様の人生のお話は、波瀾万丈ながらも時代の節目節目でその後の飛躍に繋がる大きな決断を積み重ねてこられたことがありありと感じられ、先輩経営者として大いに学ぶべき宝の山だと実感しました。その辺りはまたブログで書き表したいと思います。

誠にありがとうございました!

インタビュー内容は取材当時のものです。所属、業務内容などは現在では変更となっている場合があります。

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